¿Qué es un objetivo de titanio?
El objetivo de Ti es un material de titanio de alta-pureza (mayor o igual al 99,5 % de Ti) que se utiliza en PVD y sistemas de pulverización catódica para depositar películas delgadas de titanio o-a base de titanio sobre sustratos.
Se fabrica mediante fundición avanzada, forjado y mecanizado de precisión para lograr una alta densidad, una estructura de grano fino y un rendimiento de pulverización estable.
Se utilizan comúnmente en la fabricación de semiconductores, pantallas LCD y OLED, electrodos de memoria, recubrimientos ópticos y recubrimientos decorativos de PVD porque proporcionan excelente adhesión de película, resistencia a la corrosión y uniformidad del recubrimiento.
Propiedades físicas y químicas de los objetivos de Ti
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Propiedad |
Valor típico |
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Densidad |
4,50 – 4,52 g/cm³ |
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Punto de fusión |
1668 ± 5 grados |
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Pureza |
99.5% – 99.99% (2N5 – 4N) |
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Expansión térmica |
8.6 × 10⁻⁶ / K |
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Microestructura y Calidad Interna |
Densidad Mayor o igual al 99,5% Estructura de grano fino-uniforme Sin delaminación Sin inclusiones visibles Sin porosidad ni grietas |
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Embalaje |
Caja de madera sellada al vacío + desecante + -a prueba de golpes |
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plazo de entrega |
2 a 4 semanas para la mayoría de los tamaños |
Rango de tamaño objetivo Ti
Objetivos planos y redondos
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Tipo |
Espesor |
Ancho / Diámetro |
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Objetivo rectangular |
Mayor o igual a 0,125 pulgadas |
Menor o igual a 12 pulgadas |
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Objetivo redondo |
Mayor o igual a 0,125 pulgadas |
1,0″ – 21,0″ (25,4 – 533,4 milímetros) |
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Objetivo del tubo |
Mayor o igual a 0,125 pulgadas |
Menor o igual a 12 pulgadas |
Rugosidad de la superficie
- Superficie de pulverización: Ra menor o igual a 1,6 μm
- Superficie sin-sputtering: Ra Menor o igual a 3,2 μm
Control de calidad e inspección
- Análisis de composición química.
- Pruebas de propiedades mecánicas.
- Inspección dimensional y visual.
Si es necesario, puede recibir:
- Certificado de prueba de fábrica (MTC)
- Informes de inspección
Capacidades de objetivo de titanio personalizadas
Puedes personalizar completamente los objetivos:
1. Opciones de pureza
Desde 99,5% hasta 99,999%
2. Tamaño y espesor
- Se admiten tamaños no-estándar
- Espesor mínimo de mecanizado: 1 mm
3. Control del tamaño de grano
- Controlado por tratamiento térmico.
- Tamaño de grano disponible de 20 a 200 μm
4. Objetivos vinculados
Puedes elegir placas de respaldo en:
- Cobre (Cu)
- Aluminio (Al)
- Molibdeno (Mo)
5. Acabado de superficies
Torneado,Molienda,Pulido,Arenado
6. Formas complejas
Objetivos escalonados,Segmentar-objetivos vinculados,Contornos especiales
Preguntas frecuentes sobre objetivos de titanio
¿Se puede utilizar el objetivo de pulverización catódica de titanio en pulverización catódica a alta-temperatura o alta-potencia?
Sí.
Los objetivos de ti de alta-pureza son adecuados para la mayoría de las pulverizaciones a altas-temperaturas.
Para cargas de potencia extrema o producción industrial continua, los objetivos de Grado 5 (Ti-6Al-4V) proporcionan mayor resistencia mecánica y estabilidad térmica.
¿Se pueden exportar internacionalmente los objetivos de pulverización catódica de titanio?
Sí.
Puede realizar envíos por aire, mar o expreso (DHL, FedEx, UPS).
Todos los embalajes de exportación están protegidos contra-impactos, humedad-y oxidación-.
¿Cuál es la diferencia entre los objetivos y el objetivo PVD de titanio?
Los objetivos de PVD de titanio están optimizados específicamente para pulverización catódica de alta-precisión, lo que ofrece una mejor eficiencia de deposición y uniformidad de la película. Los objetivos estándar son más versátiles y adecuados para una gama más amplia de aplicaciones de recubrimientos industriales, aunque no siempre están optimizados para sistemas PVD de ultra-alta-precisión.
Proceso de producción
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