Objetivos de pulverización catódica de titanio de alta pureza

Cuando necesita películas delgadas estables y de alto-rendimiento para recubrimientos semiconductores, ópticos o industriales, la calidad del objetivo de sputtering lo determina todo.

Los objetivos de pulverización catódica de Ti son el material de origen principal utilizado en la pulverización catódica con magnetrón (PVD) para depositar películas basadas en titanio puro, TiN, TiAlN y titanio funcional-sobre sus sustratos.

Objetivo TiPresupuesto

Artículo	Especificación
Material	Titanio comercialmente puro (Grado 1, Grado 2) o aleaciones de titanio.
Pureza	3N5 (99,95%), 4N (99,99%), 4N5 (99,995%), 5N (99,999%) para semiconductores
Densidad	Mayor o igual a 4,51 g/cm³
Impurezas controladas	Fe, Cr, Ni, O, N, C, H (controlado por grado de pureza)
formas	Perfiles redondos, rectangulares, giratorios (cilíndricos) personalizados
Tamaño	Ø50 – Ø300 mm, espesor 3–10 mm, longitud: 4000 mm
Opciones de vinculación	Placa de soporte de cobre o aluminio, sujeción mecánica, monolítica
Acabado superficial	Mecanizado, pulido con chorro de arena, pulido,-limpiado con ácido y envasado al vacío.

Tipos de objetivos de pulverización catódica de Ti que puede elegir

No.	Material	Composición	Características clave	Aplicaciones típicas
1	CP Titanio (Gr1 / Gr2)	Mayor o igual a 99,5% Ti	Bajas impurezas, pulverización estable.	Electrónica, revestimientos decorativos.
2	Titanio de Alta Pureza (4N/5N)	Mayor o igual a 99,99% Ti	Películas ultra-limpias	Semiconductores, revestimientos ópticos.
3	Objetivo Ti-6Al-4V	Ti-6Al-4V	Deposición de película de aleación, alta resistencia.	Recubrimientos funcionales y estructurales.
4	Objetivo TiAl / TiAl₃	30–50% Al	Produce revestimientos super-duros de TiAlN	Herramientas de corte, moldes.
5	Objetivo de cerámica TiN	Ti+N	Depósito de películas TiN de color dorado-	Resistencia al desgaste, revestimientos decorativos.
6	Objetivo de TiSi₂	Ti:Si ≈ 1:2	Películas de siliciuro de baja resistividad.	Contactos y puertas semiconductores.

Cómo se fabrican sus objetivos de titanio

Fusión al vacío

Elimina gases e impurezas metálicas.

Prensado isostático en caliente (HIP)

Elimina la porosidad interna y mejora la densidad.

Mecanizado de precisión CNC

Garantiza precisión dimensional y planitud.

Embalaje ultra-limpio

El sellado al vacío o con nitrógeno evita la oxidación y la contaminación.

Esto garantiza un rendimiento de pulverización catódica estable, de alta-densidad, pocas-partículas y estable en todo momento.

Qué debe especificar al realizar el pedido

Para obtener el objetivo exacto que necesita, simplemente proporcione:

Material y calidad (Ti 99,99%, Ti-6Al-4V, TiAl, etc.)
Forma (redonda, rectangular, giratoria, personalizada)
Tamaño y tolerancia (diámetro × espesor o largo × ancho × espesor)
Límites de pureza e impurezas requeridos
Limpieza de superficies y embalaje
Cantidad y fecha de entrega prevista
Su modelo y aplicación de sistema de pulverización catódica

Preguntas frecuentes

1. ¿Cuál es el plazo de entrega de los objetivos de pulverización catódica?

Tamaños estándar: envío en 2 semanas

Objetivos personalizados: 2 a 4 semanas, según el tamaño, la pureza y el método de unión

2. ¿Se pueden personalizar los objetivos de pulverización catódica de titanio?

Sí. Puede personalizar completamente sus objetivos, incluidos:

Dimensiones y espesor
Pureza y composición de la aleación.
Acabado superficial y nivel de limpieza.
Placa de respaldo o método de montaje

3. Dónde se utilizan sus objetivos de titanio

Semiconductores: capas conductoras, películas de contacto IC.
Recubrimientos ópticos: películas anti-reflectantes y decorativas
Recubrimientos industriales PVD: TiN, TiAlN, capas-resistentes al desgaste
Automoción, aeroespacial y energía: revestimientos funcionales de alto-rendimiento

Obtenga sus objetivos de pulverización catódica de titanio de un fabricante confiable

Si necesitasobjetivos de titanio estándaroObjetivos de alta-pureza totalmente personalizados, Baoji Zecheng Metal Materials Co., Ltd. está listo para respaldar sus proyectos de recubrimiento con una respuesta rápida, calidad estable y precios competitivos.

Envíenos sus especificaciones objetivo hoy y recibirá uncotización técnica y plazo de entrega dentro de 24 horas.

📩 Contáctenosahora para adaptar sus objetivos de pulverización catódica a su sistema PVD.

Etiqueta: objetivos de pulverización catódica de titanio, fabricantes, proveedores, fábrica de objetivos de pulverización catódica de titanio de China

Objetivos de pulverización de titanio